Sabtu, 08 Maret 2014

Pengembangan Kualitas Semikonduktor Berbasis Silikom Amorf dengan Metode PECVD

Gambar Reaktor PECVD
Pengembangan kualitas semikonduktor berbasis silikon amorf dengan metode pecvd merupakan salah satu makalah dari 22 makalah yang dipresetasikan dan dipuublikasikan dalam Prosiding Seminar Nasional Sains dan Matematika yang diselenggarakan Jurusan Pendidikan MIPA FKIP Universitas Tadulako pada tanggal 19 Desember 2012 di Palu.

Makalah tersebut mengkaji pengembangan material semikonduktor berbasis silikon amorf dengan metode PECVD yang meliputi sifat optik dan listrik. Terakhir dibahas aplikasi pada beberapa devais semikonduktor seperti: sel surya, thin film transistor, TEFLET, fotoreseptor dan sensor   warna dan rencana pengembangan sistem penumbuhan lapisan tipis a-Si:H dan paduannya dengan metode PECVD di Program Studi Pendidikan Fisika FKIP Universitas Tadulako.

Data yang dipaparkan merupakan bagian dari hasil penelitian yang dibiayai oleh beberapa proyek penelitian diantaranya proyek DRRG URGE, Penelitian Fundamental dan PSN Bacth II Universitas Tadulako.

Tidak ada komentar:

Posting Komentar